┌────────────────┐
                                                         │       26       │
                                                         └────────────────┘
                                                          Регистрационный
                                                               номер
Производство интегральных схем, микросборок и ┌──────────────┐ микромодулей │ 40.007 │ _________________________________________________________ └──────────────┘ (наименование вида профессиональной деятельности) Код
┌─────────────────────────────────────────────────────────────────────────┐ │Производство наногетероструктурных сверхвысокочастотных (СВЧ) монолитных │ │интегральных схем (МИС СВЧ) с использованием нанотехнологий │ └─────────────────────────────────────────────────────────────────────────┘
2111  | Физики  | 2113  | Химики  | 
(код ОКЗ <1>)  | (наименование)  | (код ОКЗ)  | (наименование)  | 
26.11.3  | Производство интегральных электронных схем  | 
(код ОКВЭД <2>)  | (наименование вида экономической деятельности)  | 
Обобщенные трудовые функции  | Трудовые функции  | ||||
код  | наименование  | уровень квалификации  | наименование  | код  | уровень (подуровень) квалификации  | 
A  | Моделирование, разработка и внедрение новых технологических процессов производства наногетероструктурных МИС СВЧ  | 7  | Анализ мирового опыта применения материалов наногетероструктурной электроники СВЧ  | A/01.7  | 7  | 
Разработка планов создания и модернизации технологических линий для освоения новых направлений в наногетероструктурной электронике СВЧ  | A/02.7  | ||||
Подготовка технического задания (ТЗ) на проведение опытно-технологических работ (ОТР) по разработке новых технологических процессов производства МИС СВЧ  | A/03.7  | ||||
Моделирование наногетероструктур, активных и пассивных элементов, технологических операций изготовления гетероструктурных МИС СВЧ с использованием технологических систем моделирования и проектирования элементов и технологий полупроводниковых ИС, в том числе МИС СВЧ, изготавливаемых на основе гетероструктур (TCAD)  | A/04.7  | ||||
Подготовка технического задания (ТЗ) на разработку маршрутных и операционных карт производства МИС СВЧ на основе разработанной конструкторской документации (КД), документации на отработанные технологические процессы (ТП) и данных моделирования  | A/05.7  | ||||
B  | Подготовка комплекта технологической документации (ТД) производства наногетероструктурных МИС СВЧ, организация и сопровождение технологического процесса производства  | 7  | Разработка комплекта технологической документации для производства МИС СВЧ на основе ТЗ и нормативной документации  | B/01.7  | 7  | 
Планирование и организация сопровождения технологического процесса производства МИС СВЧ  | B/02.7  | ||||
Разработка методики входного, межоперационного и выходного контроля при производстве наногетероструктурных МИС СВЧ  | B/03.7  | ||||
Реализация технологии на основе электронной литографии  | B/04.7  | ||||
Реализация технологии на основе проекционной литографии  | B/5.7  | ||||
Организация работы по повышению выхода годных МИС, разработка ТЗ для корректировки технологических операций  | B/6.7  | ||||
C  | Осуществление проектирования и изготовления методами эпитаксии наногетероструктур для ОТР и производства МИС СВЧ  | 7  | Проведение расчета параметров технологического процесса эпитаксиального выращивания наногетероструктур на подложках, применяемых в СВЧ-электронике  | C/1.7  | 7  | 
Подготовка и квалификация машин к росту продукции  | C/2.7  | ||||
Определение методик тестирования качества эпитаксиальных слоев  | C/3.7  | ||||
Проведение статистического анализа поведения установки во время исследования, статистическое сопровождение по группам продукции и контроль качества по спецификации заказчика  | C/4.7  | ||||
D  | Проведение ОТР по разработке базовых технологических процессов МИС СВЧ  | 7  | Анализ КД и ТЗ на проведение ОТР, оценка достижимости заданных параметров МИС СВЧ по выбираемой или заданной технологии  | D/1.7  | 7  | 
Определение базовых технологических процессов, применяемых материалов и оборудования для изготовления опытных образцов МИС СВЧ  | D/2.7  | ||||
Согласование принимаемых решений с представителями заказчика, конструкторскими подразделениями, метрологической службой и другими смежными структурами организации  | D/3.7  | ||||
Управление командой по реализации ОРТ  | D/4.7  | ||||
Наименование  | Моделирование, разработка и внедрение новых технологических процессов производства наногетероструктурных МИС СВЧ  | Код  | A  | Уровень квалификации  | 7  | 
Происхождение обобщенной трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Возможные наименования должностей  | Ведущий инженер-технолог Инженер-технолог  | 
Требования к образованию и обучению  | Высшее образование - специалитет, магистратура  | 
Требования к опыту практической работы  | Не менее одного года работы в должности инженера-технолога  | 
Особые условия допуска к работе  | Прохождение обязательных предварительных (при поступлении на работу) и периодических медицинских осмотров (обследований) в установленном законодательством порядке <1>; инструктаж по безопасному ведению работ  | 
Наименование документа  | Код  | Наименование базовой группы, должности (профессии) или специальности  | 
ОКЗ  | 2111  | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Физики  | 
2113  | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Химики  | |
ЕКС <2>  | -  | Инженер-технолог  | 
ОКСО <3>  | 5507002  | Электроника и микроэлектроника  | 
01.04.04  | Физическая электроника  | 
Наименование  | Анализ мирового опыта применения материалов наногетероструктурной электроники СВЧ  | Код  | A/01.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ применения материалов в интегральной электронике СВЧ, основанной на гетероэпитаксиальных структурах  | 
Анализ физических и технологических принципов разработки и изготовления активных элементов с применением новых и традиционных материалов СВЧ (гетеротранзисторов с высокой подвижностью электронов, низкобарьерных диодов и др.)  | |
Прогноз применения материалов в наногетероструктурной электронике для определения политики организации в области производства наногетероструктурных МИС СВЧ  | |
Необходимые умения  | Делать обзоры по отечественным и иностранным источникам информации  | 
Необходимые знания  | Технический английский язык  | 
Основы материаловедения полупроводников и гетероструктур  | |
Технология наногетероструктурных МИС СВЧ  | |
Технологическое оборудование для производства МИС СВЧ  | |
Технико-экономические и прогнозные исследования в отрасли  | |
Другие характеристики  | Ответственность за прогнозные оценки развития производства  | 
Деятельность, направленная на решение нетиповых задач технологического характера  | 
Наименование  | Разработка планов создания и модернизации технологических линий для освоения новых направлений в наногетероструктурной электронике СВЧ  | Код  | A/02.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ тенденций развития технологии, технологического оборудования в области наногетероструктурной электроники СВЧ  | 
Разработка технически и экономически обоснованных планов развития новых производств или модернизации существующих для освоения новых направлений в производстве МИС СВЧ  | |
Представление планов развития для обсуждения и принятия на научно-техническом совете (НТС)  | |
Необходимые умения  | Делать обзоры по отечественным и иностранным источникам информации  | 
Готовить планы развития  | |
Готовить презентации  | |
Необходимые знания  | Технический английский язык  | 
Технология наногетероструктурных МИС СВЧ, исследования в новых направлениях  | |
Технологическое оборудование для производства МИС СВЧ  | |
Технико-экономические и прогнозные исследования в отрасли  | |
Другие характеристики  | Ответственность за прогнозные оценки развития производства  | 
Деятельность, направленная на решение новых задач технологического характера  | 
Наименование  | Подготовка технического задания (ТЗ) на проведение опытно-технологических работ (ОТР) по разработке новых технологических процессов производства МИС СВЧ  | Код  | A/03.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ прогнозных оценок тенденций развития технологии, технологического оборудования в области наногетероструктурной электроники СВЧ  | 
Постановка целей и задач проведения опытно-технологических работ по разработке новых ТП производства МИС СВЧ  | |
Декомпозиция задач ОТР, выделение базовых ТП и установление временных рамок и последовательности их разработки  | |
Представление планов развития для обсуждения и принятия на НТС  | |
Формулирование ТЗ для определенной последовательности разработки базовых технологических процессов  | |
Оформление ТЗ на ОТР  | |
Представление и защита разработанных ТЗ на НТС  | |
Необходимые умения  | Формулировать цели, задачи, разрабатывать и согласовывать ТЗ на проведение связанных системно ОТР  | 
Необходимые знания  | Физика и технология наногетероструктурных МИС СВЧ, исследования в новых направлениях  | 
Системный анализ  | |
Методы декомпозиции сложных задач  | |
Технологическое оборудование для производства МИС СВЧ  | |
Технико-экономическое обоснование развития отрасли  | |
Стандарты на проведение опытно-технологических работ  | |
Другие характеристики  | Ответственность за развитие производства  | 
Деятельность, направленная на решение новых задач технологического характера  | 
Наименование  | Моделирование наногетероструктур, активных и пассивных элементов, технологических операций изготовления гетероструктурных МИС СВЧ с использованием технологических систем моделирования и проектирования элементов и технологий полупроводниковых ИС, в том числе МИС СВЧ, изготавливаемых на основе гетероструктур (TCAD)  | Код  | A/04.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ требований КД на МИС СВЧ  | 
Выбор на основе опыта и в соответствии с ТЗ и КД материалов и типа наногетероструктуры  | |
Моделирование наногетероструктур, определение их параметров, необходимых для расчета активных элементов (СВЧ-транзисторов, диодов) с использованием TCAD и других программных продуктов  | |
Моделирование технологического процесса изготовления активных элементов, определение параметров ТП на основе данных моделирования  | |
Моделирование технологических операций изготовления пассивных элементов - линий передачи, конденсаторов, резисторов, мостов и др.  | |
Отчет о результатах моделирования, согласование его с руководителем и передача технологу для использования при разработке ТД  | |
Необходимые умения  | Оценивать технические и экономические риски при выборе технологических процессов изготовления МИС СВЧ  | 
Оценивать временные затраты на стандартные и нестандартные подходы при производстве МИС СВЧ  | |
Необходимые знания  | Основы физики гетероэпитаксиальных структур и приборов  | 
Параметры полупроводниковых материалов  | |
Современные системы моделирования и проектирования СВЧ-устройств и МИС СВЧ  | |
Основы технологии МИС СВЧ  | |
Методы сквозного проектирования МИС СВЧ  | |
Единая система технологической документации (ЕСТД), нормативная документация, регламенты, принятые в организации  | |
ГОСТ по постановке продукции на производство  | |
Другие характеристики  | Самостоятельная профессиональная деятельность, предполагающая ответственность за выбор типа гетероструктур и активных элементов, как результат выполнения собственных работ  | 
Деятельность, направленная на подготовку заданий на конструирование МИС СВЧ  | 
Наименование  | Подготовка технического задания (ТЗ) на разработку маршрутных и операционных карт производства МИС СВЧ на основе разработанной конструкторской документации (КД), документации на отработанные технологические процессы (ТП) и данных моделирования  | Код  | A/05.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ требований КД на МИС СВЧ, а также данных моделирования наногетероструктур, активных и пассивных элементов  | 
Оценка на основе опыта и экспериментальных данных реализуемости технологии изготовления на МИС СВЧ и возможных рисков  | |
Выбор на основе нормативных документов ТП, в наиболее полном виде обеспечивающих требования к параметрам МИС СВЧ  | |
Составление ТЗ на разработку ТД с учетом требований КД  | |
Согласование ТЗ в соответствии с регламентом, принятым в организации  | |
Необходимые умения  | Оценивать технические и экономические риски при выборе технологических процессов изготовления МИС СВЧ  | 
Оценивать временные затраты на стандартные и нестандартные подходы при производстве МИС СВЧ  | |
Составлять согласно стандартам технические задания на разработку ТД МИС СВЧ  | |
Оформлять ТД для сопровождения производства МИС СВЧ  | |
Взаимодействовать с коллективами цехов, участков  | |
Необходимые знания  | Основы физики гетероэпитаксиальных структур и приборов  | 
Параметры полупроводниковых материалов  | |
Современные системы моделирования и проектирования СВЧ-устройств и МИС СВЧ  | |
Основы технологии МИС СВЧ  | |
Методы сквозного проектирования МИС СВЧ  | |
ЕСТД, нормативная документация, регламенты, принятые в организации  | |
Стандарты по постановке продукции на производство  | |
Другие характеристики  | Самостоятельная профессиональная деятельность, предполагающая ответственность за выбор типа гетероструктур и активных элементов, как результат выполнения собственных работ  | 
Деятельность, направленная на подготовку заданий на разработку технологических процессов МИС СВЧ  | 
Наименование  | Подготовка комплекта технологической документации (ТД) производства наногетероструктурных МИС СВЧ, организация и сопровождение технологического процесса производства  | Код  | B  | Уровень квалификации  | 7  | 
Происхождение обобщенной трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Возможные наименования должностей  | Ведущий инженер-технолог Инженер-технолог  | 
Требования к образованию и обучению  | Высшее образование - специалитет, магистратура  | 
Требования к опыту практической работы  | Не менее одного года работы в должности инженера-технолога  | 
Особые условия допуска к работе  | Прохождение обязательных предварительных (при поступлении на работу) и периодических медицинских осмотров (обследований) в установленном законодательством порядке; инструктаж по безопасному ведению работ  | 
Наименование документа  | Код  | Наименование базовой группы, должности (профессии) или специальности  | 
ОКЗ  | 2111  | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Физики  | 
2113  | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Химики  | |
ЕКС  | -  | Инженер-технолог  | 
ОКСО  | 5507002  | Электроника и микроэлектроника  | 
01.04.04  | Физическая электроника  | 
Наименование  | Разработка комплекта технологической документации для производства МИС СВЧ на основе ТЗ и нормативной документации  | Код  | B/01.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ КД и ТЗ на разработку МИС СВЧ в части требований к технологии производства  | 
Обоснование выбора маршрутной технологии  | |
Разработка маршрутных карт ТП изготовления МИС СВЧ  | |
Расчет технологических режимов операций  | |
Разработка операционных карт ТП  | |
Оформление технологической документации на ТП, согласование ее в соответствии с установленными регламентами  | |
Необходимые умения  | Работать с нормативной документацией  | 
Работать в системе автоматизации проектирования (САПР) подготовки ТД для производства МИС СВЧ  | |
Необходимые знания  | Технология производства МИС СВЧ  | 
Стандарты для подготовки технологической документации  | |
САПР подготовки ТД  | |
Другие характеристики  | Ответственность за качество технологической документации на производство МИС СВЧ  | 
Наименование  | Планирование и организация сопровождения технологического процесса производства МИС СВЧ  | Код  | B/02.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Тестовый запуск, сопровождение и контроль выполнения технологических операций в ходе изготовления экспериментальной партии МИС СВЧ  | 
Анализ данных измерения параметров тестовых структур МИС СВЧ, внесение предложений по коррекции режимов в технологическую документацию  | |
Сопровождение установившегося технологического процесса производства МИС СВЧ: формирование баз данных измерения и контроля, составление протоколов и актов контроля параметров МИС  | |
Анализ данных измерений и контроля, предложения об изменении параметров ТП  | |
Необходимые умения  | Проводить анализ технологической документации  | 
Работать на части технологического оборудования  | |
Необходимые знания  | Стандарты на ТД: нормативная документация отрасли, организации на технологические процессы  | 
Основы технологии МИС СВЧ  | |
Система менеджмента качества (СМК)  | |
Другие характеристики  | Профессиональная деятельность, направленная на согласование работ группы инженеров-конструкторов и инженеров-технологов  | 
Наименование  | Разработка методики входного, межоперационного и выходного контроля при производстве наногетероструктурных МИС СВЧ  | Код  | B/03.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ ТЗ в части требований к параметрам исходных материалов и выполнения отдельных операций при изготовлении МИС СВЧ  | 
Разработка методик, выбор оборудования входного контроля материалов, используемых в производстве МИС СВЧ: подложек, металлов, диэлектриков и др.  | |
Разработка методик, выбор оборудования межоперационного контроля на тестовых структурах и элементах МИС СВЧ  | |
Разработка методик, выбор оборудования выходного контроля на тестовых структурах и МИС СВЧ  | |
Руководство проведением всех видов контроля  | |
Формирование базы данных всех видов контроля  | |
Статистическая обработка данных контроля с оформлением протоколов и заключений  | |
Необходимые умения  | Работать на оборудовании входного, межоперационного и выходного контроля при производстве наногетероструктурных МИС СВЧ  | 
Необходимые знания  | Методы контроля параметров МИС СВЧ и технологических процессов  | 
Другие характеристики  | Ответственность за контроль качества МИС СВЧ  | 
Наименование  | Реализация технологии на основе электронной литографии  | Код  | B/04.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ КД и ТЗ в части требований к реализации ТП на основе электронной литографии  | 
Техническая проверка исходных файлов топологии МИС СВЧ для проведения электронной литографии  | |
Руководство подготовкой подложек для проведения операций экспонирования фоторезистов на установке электронной литографии  | |
Подготовка установки электронной литографии к проведению операций прорисовки топологии  | |
Руководство реализацией операций резист-процессинга после экспонирования подложек  | |
Измерение параметров тестовых структур и элементов МИС СВЧ на подложке, оформление протокола и внесение данных в базу данных участка электронной литографии  | |
Передача подложки на следующий участок в соответствии с маршрутной картой  | |
Регламентные работы по тестированию установки электронной литографии  | |
Необходимые умения  | Работать с нормативной документацией  | 
Работать в САПР подготовки ТД для производства МИС СВЧ  | |
Необходимые знания  | Методы электронной литографии  | 
Технология производства МИС СВЧ на основе электронной литографии  | |
Стандарты для подготовки технологической документации  | |
САПР подготовки файлов топологии для электронной литографии  | |
Другие характеристики  | Ответственность за качество ТП, основанного на электронной литографии  | 
Наименование  | Реализация технологии на основе проекционной литографии  | Код  | B/05.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ КД и ТЗ в части требований к реализации ТП на основе проекционной литографии  | 
Техническая проверка исходных файлов топологии МИС СВЧ для изготовления фотошаблонов  | |
Руководство изготовлением комплекта фотошаблонов в соответствии с ТЗ  | |
Руководство подготовкой подложек для проведения последовательности операций ТП, основанного на проекционной литографии (фотолитографии)  | |
Подготовка установки проекционной литографии к проведению операций  | |
Руководство реализацией последовательности операций изготовления МИС СВЧ после экспонирования подложек  | |
Измерение параметров тестовых структур и элементов МИС СВЧ на подложке, оформление протокола и внесение данных в базу данных участка проекционной литографии  | |
Передача подложки на следующий участок в соответствии с маршрутной картой  | |
Регламентные работы по тестированию установок проекционной литографии  | |
Необходимые умения  | Работать с нормативной документацией  | 
Работать в САПР подготовки ТД для производства МИС СВЧ  | |
Необходимые знания  | Технология производства МИС СВЧ на основе проекционной литографии  | 
Стандарты для подготовки технологической документации  | |
САПР подготовки файлов топологии для проекционной литографии  | |
Другие характеристики  | Ответственность за качество ТП проекционной литографии  | 
Наименование  | Организация работы по повышению выхода годных МИС, разработка ТЗ для корректировки технологических операций  | Код  | B/06.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Разработка методик статистической обработки данных по уровню отклонений параметров и брака на пластинах наногетероструктурных МИС СВЧ  | 
Анализ причин отклонений, отказов и связывание их с исходными параметрами материалов гетероструктур, технологических операций, топологии  | |
Составление программы дополнительных исследований и измерений  | |
Подготовка рекомендации по устранению причин отклонений параметров и брака МИС СВЧ  | |
Разработка ТЗ для корректировки технологических операций и других мероприятий на основе анализа причин отклонений параметров и отказов  | |
Необходимые умения  | Разрабатывать и владеть методиками статистической обработки данных  | 
Владеть методиками межоперационного контроля  | |
Анализировать результаты экспериментов  | |
Разрабатывать ТЗ  | |
Владеть методологией СМК  | |
Необходимые знания  | Методы планирования эксперимента  | 
Методы и методики статистического анализа  | |
Теория допусков и теория чувствительности  | |
Другие характеристики  | Ответственность за процент выхода годных МИС  | 
Деятельность, направленная на решение задач повышения эффективности организации  | 
Наименование  | Осуществление проектирования и изготовления методами эпитаксии наногетероструктур для ОТР и производства МИС СВЧ  | Код  | C  | Уровень квалификации  | 7  | 
Происхождение обобщенной трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Возможные наименования должностей  | Ведущий инженер-технолог Инженер-технолог  | 
Требования к образованию и обучению  | Высшее образование - специалитет, магистратура  | 
Требования к опыту практической работы  | Не менее одного года работы в должности инженера-технолога  | 
Особые условия допуска к работе  | Прохождение обязательных предварительных (при поступлении на работу) и периодических медицинских осмотров (обследований) в установленном законодательством порядке; инструктаж по безопасному ведению работ  | 
Наименование документа  | Код  | Наименование базовой группы, должности (профессии) или специальности  | 
ОКЗ  | 2111  | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Физики  | 
2113  | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Химики  | |
ЕКС  | -  | Инженер-технолог  | 
ОКСО  | 5507002  | Электроника и микроэлектроника  | 
01.04.04  | Физическая электроника, технические науки  | 
Наименование  | Проведение расчета параметров технологического процесса эпитаксиального выращивания наногетероструктур на подложках, применяемых в СВЧ-электронике  | Код  | C/01.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ ТЗ на разработку МИС СВЧ в части требований к материалам и типу наногетероструктуры  | 
Обоснование выбора машины для проведения эпитаксии  | |
Расчет технологических режимов выращивания эпитаксиальных слоев  | |
Моделирование роста гетероструктур с применением TCAD  | |
Разработка технологической документации на изготовление гетероструктур  | |
Необходимые умения  | Работать на машинах молекулярно-лучевой эпитаксии  | 
Необходимые знания  | Технический английский язык  | 
Основы материаловедения полупроводников и гетероструктур  | |
Методы эпитаксии для производства гетероструктур, применяемых в наноэлектронике СВЧ  | |
Работа с установками сверхвысокого вакуума  | |
Другие характеристики  | Ответственность за качество исходных материалов для МИС СВЧ  | 
Наименование  | Подготовка и квалификация машин к росту продукции  | Код  | C/02.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Выполнение регламента подготовки машины к проведению ТП выращивания наногетероструктуры  | 
Подготовка материалов для проведения эпитаксии  | |
Проведение роста наногетероструктур в соответствии с ТП  | |
Необходимые умения  | Работать на машинах молекулярно-лучевой эпитаксии  | 
Необходимые знания  | Технический английский язык  | 
Основы материаловедения полупроводников и гетероструктур  | |
Технология молекулярно-лучевой эпитаксии  | |
Работа с установками сверхвысокого вакуума  | |
Другие характеристики  | Ответственность за качество исходных материалов для МИС СВЧ  | 
Наименование  | Определение методик тестирования качества эпитаксиальных слоев  | Код  | C/03.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Выбор методов и технических средств для тестирования эпитаксиальных слоев наногетероструктур  | 
Измерение основных параметров в процессе эпитаксии  | |
Измерение параметров выращенных структур при завершении процесса эпитаксии  | |
Формирование базы данных результатов тестирования и измерения  | |
Необходимые умения  | Работать с приборами и установками измерения параметров наногетероструктур  | 
Необходимые знания  | Методы измерения и тестирования параметров наногетероструктур  | 
Основы материаловедения полупроводников и гетероструктур  | |
Другие характеристики  | Ответственность за качество исходных материалов для МИС СВЧ  | 
Наименование  | Проведение статистического анализа поведения установки во время исследования, статистическое сопровождение по группам продукции и контроль качества по спецификации заказчика  | Код  | C/04.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Формирование базы данных параметров установки во время реализации процесса роста  | 
Анализ путем статистической обработки точности выполнения операций и результаты роста  | |
Анализ данных статистической обработки об отклонениях в реализации роста и выработка корректирующих действий в следующей загрузке  | |
Оформление сдаточных документов с сертификатом наногетероструктур для заказчика  | |
Необходимые умения  | Проводить статистический анализ  | 
Оформлять протоколы и сертификаты (паспорта) продукции  | |
Необходимые знания  | Методы статистической обработки данных  | 
Теория и практика управления технологическими процессами  | |
Другие характеристики  | Ответственность за качество исходных материалов для МИС СВЧ  | 
Наименование  | Проведение ОТР по разработке базовых технологических процессов МИС СВЧ  | Код  | D  | Уровень квалификации  | 7  | 
Происхождение обобщенной трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Возможные наименования должностей  | Ведущий инженер-технолог  | 
Требования к образованию и обучению  | Высшее образование - специалитет, магистратура  | 
Требования к опыту практической работы  | Не менее одного года работы в должности инженера-технолога  | 
Особые условия допуска к работе  | Прохождение обязательных предварительных (при поступлении на работу) и периодических медицинских осмотров (обследований) в установленном законодательством порядке; инструктаж по безопасному ведению работ  | 
Наименование документа  | Код  | Наименование базовой группы, должности (профессии) или специальности  | 
ОКЗ  | 2111  | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Физики  | 
2113  | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Химики  | |
ЕКС  | -  | Инженер-технолог  | 
ОКСО  | 5507002  | Электроника и микроэлектроника  | 
01.04.04  | Физическая электроника  | 
Наименование  | Анализ КД и ТЗ на проведение ОТР, оценка достижимости заданных параметров МИС СВЧ по выбираемой или заданной технологии  | Код  | D/01.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ экспериментальных данных предыдущих разработок  | 
Оценка достижимости параметров путем моделирования основных электрических и эксплуатационных параметров, а также технологии изготовления активных и пассивных элементов МИС СВЧ  | |
Организация проведения экспертных оценок достижимости заданных параметров по ТЗ  | |
Разработка предложений о коррекции ТЗ на ОТР (в случае критичности достижения отдельных параметров)  | |
Необходимые умения  | Разрабатывать и владеть методами моделирования элементов и МИС в СВЧ-диапазоне  | 
Владеть методиками экспертных оценок  | |
Владеть методологией СМК  | |
Необходимые знания  | Методы моделирования активных и пассивных элементов МИС СВЧ  | 
Методики экспертных оценок  | |
Другие характеристики  | Ответственность за корректность оценки ТЗ на реализуемость  | 
Наименование  | Определение базовых технологических процессов, применяемых материалов и оборудования для изготовления опытных образцов МИС СВЧ  | Код  | D/02.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Анализ технического задания на ОТР, определение базовых технологических процессов для реализации целей ОТР  | 
Обоснование применения материалов, используемых при производстве МИС СВЧ  | |
Разработка перечня оборудования для реализации технологического процесса производства МИС  | |
Разработка технико-экономического обоснования выбранных решений  | |
Защита на НТС обоснованных технологических решений реализации ОТР  | |
Необходимые умения  | Оформлять технические решения в виде пояснительной записки, презентации, согласовывать их в соответствии с установленным регламентом и представлять на НТС  | 
Необходимые знания  | Системный анализ  | 
Нормативная документация и описания базовых технологических процессов  | |
Основы материаловедения применительно к электронике СВЧ  | |
Методики проведения технико-экономических исследований при производстве высокотехнологичной продукции  | |
Другие характеристики  | Профессиональная деятельность, направленная на развитие инновационных разработок  | 
Наименование  | Согласование принимаемых решений с представителями заказчика, конструкторскими подразделениями, метрологической службой и другими смежными структурами организации  | Код  | D/03.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Разработка комплекса согласованных мероприятий по улучшению параметров технологического процесса и МИС СВЧ  | 
Системный анализ влияния принимаемых согласованных решений на качественное и количественное улучшение основных параметров технологического процесса и МИС СВЧ  | |
Необходимые умения  | Принимать согласованные решения  | 
Владеть методологией СМК  | |
Необходимые знания  | Системный анализ  | 
Теория и практика принятия оптимальных решений  | |
Процессный метод системы менеджмента качества  | |
Другие характеристики  | Ответственность за конечный результат, удовлетворяющий заказчика и имеющий перспективу производства электронных компонент СВЧ-техники  | 
Наименование  | Управление командой по реализации ОТР  | Код  | D/04.7  | Уровень (подуровень) квалификации  | 7  | 
Происхождение трудовой функции  | Оригинал  | X  | Заимствовано из оригинала  | ||
Код оригинала  | Регистрационный номер профессионального стандарта  | ||||
Трудовые действия  | Постановка частных задач исследовательским и производственным коллективам для достижения основного результата  | 
Контроль и оценка достижений заданных результатов  | |
Необходимые умения  | Декомпозировать ТЗ без потери системности  | 
Принимать согласованные решения  | |
Владеть методологией СМК  | |
Необходимые знания  | Системный анализ  | 
Теория и практика принятия оптимальных решений  | |
Процессный метод системы менеджмента качества  | |
Другие характеристики  | Ответственность за выполнение всех требований ТЗ на ОТР  | 
┌─────────────────────────────────────────────────────────────────────────┐ │ Фонд инфраструктурных и образовательных программ (РОСНАНО) │ │ │ │ Генеральный директор Свинаренко Андрей Геннадьевич │ └─────────────────────────────────────────────────────────────────────────┘
1.  | Автономная некоммерческая организация "Национальное агентство развития квалификаций", город Москва  | 
2.  | ЗАО "Научно-производственная фирма "Микран", город Томск  | 
3.  | ОАО НИИ Полупроводниковых приборов, город Томск  | 
4.  | ООО "НПФ "Сенсерия", город Томск  | 
5.  | ООО "НПФ "Сибтроника", город Томск  | 
6.  | ООО "РИД", город Томск  | 
7.  | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" (ТУСУР), город Томск  |